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电子化学品材料


半导体显示用产品

光刻胶剥离液

剥离光刻胶效果好,对其它膜层无腐蚀,安全环保,回收率高。

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光刻胶剥离液

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蚀刻液

可蚀刻 Cu/Ag/Al/Mo/Nb/Ti 等膜层,选择比高。

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蚀刻液

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集成电路用产品

光刻胶剥离液

适用于前道/后道/先进封装(如 RDL 等)等制程。剥离光刻胶效果好(包括厚膜光刻胶),对其它膜层无腐蚀,安全环保。

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光刻胶剥离液

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蚀刻液

适用于金属和非金属膜层,高选择比,保持良好 Profile。

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蚀刻液

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清洗液

高纯IPA,用于马兰戈尼方式的清洗与干燥。

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清洗液

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